ÀüÀÚºö°¡°ø[electron beam processing]
°í¿¡³ÊÁöÀÔÀÚ¿øÀÎ ÀüÀÚ(ÀÏ·ºÆ®·Ð)ºöÀ» ÀÌ¿ëÇÏ¿© ±Ý¼ÓÀ» Áß½ÉÀ¸·Î ÇÑ Àç·á¸¦ °¡°øÇÏ´Â ¹æ¹ýÀÇ ÃÑĪ. °íÁø°ø ÇÏ¿¡¼ ÀüÀÚÃÑ¿¡ °íÀü¾ÐÀ» °É¾î ÀüÀÚÃÑ¿¡¼ ¹ß»çµÈ ±¤¼ÓµµÀÇ 1/2 Á¤µµ·Î °¡¼ÓÇÑ ÀüÀÚ¸¦ ºö ¸ð¾çÀ¸·Î ÇÏ°í, ÀÌ°ÍÀ» Àç·á¿¡ Ãæµ¹½ÃÄѼ ÇÏ´Â °¡°ø¹ý. ÀüÀÚ ¿îµ¿¿¡³ÊÁöÀÇ ´ëºÎºÐÀº ¿¿¡³ÊÁö·Î º¯È¯µÇ¹Ç·Î ÇÇ°¡°ø¹°ÀÇ ¿Âµµ´Â ÇöÀúÇÏ°Ô »ó½Â½Ãų ¼ö ÀÖ°í, Á¶°Ç¿¡ µû¶ó ³ì´ÂÁ¡Àº ¹°·Ð ²ú´ÂÁ¡À» ³Ñ°Ü¼ Áõ¹ß½Ãų ¼ö ÀÖ´Ù. ÆÝĪ°¡°ø, Àý´Ü, ¿ëÁ¢, ¿ëÇØ, ÁõÂø µî¿¡ ÀÌ¿ëµÇ°í ÀÖ´Ù. ÀüÀÚºöÀÇ Á¶»çÀ§Ä¡․Å©±â․°µµ¸¦ Á¤È®È÷ Á¦¾îÇÒ ¼ö ÀÖÀ¸¹Ç·Î ¹Ì¼¼°¡°øµµ °¡´ÉÇÏ´Ù. ¿¹¸¦µé¸é ¼ö¥ìm Á¤µµÀÇ ±¸¸Û¶Õ±â³ª ¹Ì¼¼ÇÑ ½½¸´°¡°ø¿¡ ÀÌ¿ëµÇ°í ÀÖ´Ù. Á¶»ç¿¡³ÊÁö ¹Ðµµ°¡ ³ô°í °íÀ¶Á¡Àç·áÀÇ °¡°øÀÌ °¡´ÉÇϸç, µµÀüÀç·á¸¸ÀÌ ¾Æ´Ñ ºñµµÀüÀç·á¿¡µµ °¡°øÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. Áø°ø ¼Ó¿¡¼ °¡°øÇϱ⠶§¹®¿¡ ÇÇ°¡°ø¹°ÀÇ Ç¥¸é¿À¿°ÀÌ ÀûÀº Ư¡À» °¡ÁöÁö¸¸, ¹Ý¸é Áø°ø ³»ÀÇ Á¶ÀÛÀÌ ÇʼöÀûÀ̱⠶§¹®¿¡ °í°¡․Ãë±ÞÀÌ ºÒÆíÇÏ´Ù´Â µîÀÌ ¹®Á¦Á¡µµ ÀÖ´Ù. Àý´Ü․¿ëÁ¢ºÐ¾ß¿¡¼´Â ¿ëÀÔÀÌ ±í°í °íÇ°ÁúÀÎ °Í¿¡ Àû¿ëµÇ°í ÀÖ´Ù. ¶Ç °í¿Â․°íÁø°øÀ» È°¿ëÇÏ¿© Ti, Zr, Ta, Nb, Mo µî È°¼ºÀÎ °íÀ¶Á¡±Ý¼ÓÀÇ ¿ëÇØ ¹× Á¤·Ã¿¡ ÀûÇÕÇÏ´Ù. ´õ¿íÀÌ Áõ±â¾ÐÀÌ ³ôÀº ºÒ¼ø¹°¿ø¼Ò ¹× °¡½º¼ººÐÀÇ Á¦°Å¿¡ ¿ì¼öÇϹǷΠÁ¶±Ý¼ÓÀ» Àç¿ëÇØÇÏ¿© Á¤Á¦ÇÒ ¶§¿¡µµ »ç¿ëµÇ°í ÀÖ´Ù. ÀüÀÚºöÀÇ Ãæµ¹Çü½Ä ¹× ¿ëÇرݼÓÀÇ À̵¿Çü½Ä¿¡ µû¶ó Ç÷ÎÆú¸Æ®¿ëÇØ․ÀûÇÏ¿ëÇØ․ÀÏ·ù(ìî×µ)¿ëÇØ µîÀ¸·Î ºÐ·ùµÇ°í, ¼ö³Ã±¸¸®ÁÖÇü¿¡ ÀÀ°í½ÃÄѼ ÁÖ±«¸¦ ¾ò°í ÀÖ´Ù.