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제목 고기능성 표면금속
분류 기계재료 > 기계재료일반 작성일 2019.04.01.10.14.06
작성자 admin 다운/조회 0 / 449
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최근 반도체 산업기술에서 VLSI, ULSI, 등과 같은 초집적 반도체소자 제조에 필수적으로 사용되고 있는 방법이 건식도금법이다.

표면금속을 제조하는 방법으로는 물리적 방법인 PVD(physical vapor deposition)법과 화학적 방법인 CVD(chemical vapor deposition)법이 있다. PVD법은 진공상태에서 얻고자하는 물질을 이온빔, 고주파, 저항법에 의해 증발시켜 증발된 원자 및 분자를 재료표면에 도금하는 기술이며 CVD 법은 반응성이 강한 물질을 기체상태에서 빛, , 플라스마는 Xray등을 이용하여 화학반응으로 재료표면에 도금하는 기술이다.

이 방법은 장점을 열거하면 다음과 같다.

거의 모든 금속, 비금속, 화합물의 코팅이 가능하다.

다층코팅을 가능하게 해준다.

기체의 형태로 화학반응을 일으키므로 복잡한 형상에도 피복이 가능하다.

고순도의 재료를 코팅할 수 있다.

코팅속도가 빠르다.

설비비가 저렴하고 공해 염려가 없다.

PVD방법 역시 CVD 방법과 더불어 표면처리기술 발전에 기여한 방법으로 그 응용분야는 아래와 같다.

내마모성 및 윤활성 피막 : TiN, TiC, TaN, CrN, Au, PbSn, MnS2

자성재료 : NiFe2, Ni, Fe, Co

저항재료 : NiCr, Carbon

광학재료 : TiO2, SiO2, LiF, MgF2

장식재료 : Sn, Ag, Al, TiN, TiC

내열재료 : ZrO2Y2O3

내부식재료 : Zn, Sn, Cd, Al

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